磁力真空退火爐 磁場(chǎng)真空合金爐 |
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用途: 該設(shè)備用于半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)工藝過(guò)程中,在可控磁場(chǎng)中實(shí)現(xiàn)真空退火、真空合金、真空晶化等工藝。該系統(tǒng)具有精確的磁場(chǎng)強(qiáng)度和溫度控制系統(tǒng)和高真空系統(tǒng)。 主要技術(shù)參數(shù): ◆結(jié)構(gòu)型式:臥式熱壁型 ◆工作溫度范圍:500度,700度,1100度。 ◆恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度:±0.5℃/800mm ◆氣體流量設(shè)定精度:±1%F.S ◆氣路系統(tǒng)氣密性: 1×10-7pa.m3/s ◆工藝均勻性:≤±5% ◆控制方式: 工業(yè)微機(jī)控制 ◆真空度: 5*10-4 Pa ◆記錄工藝曲線數(shù)量及工藝步數(shù)不受限制
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