| PECVD設備 |
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價格： 元(人民幣) | 產(chǎn)地：山東青島市 |
| 最少起訂量：1臺 | 發(fā)貨地：山東青島市 | |
| 上架時間：2024-10-21 08:24:45 | 瀏覽量：17 | |
青島福潤德微電子設備有限公司
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| 經(jīng)營模式： | 公司類型： | |
| 所屬行業(yè)：電子產(chǎn)品制造設備 | 主要客戶： | |
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滿足半導體集成電路，電力電子器件，光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。 CVD系統(tǒng)性能特點： 結(jié)構(gòu)形式：1—4管臥式熱壁型 硅片規(guī)格：2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片) 溫度范圍：300～1100℃ 恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1000mm(±1℃／24h) 淀積薄膜均勻性： 片內(nèi)±5％ 片間±5％ 批間±5％ 沉積膜厚度：600～15000A 系統(tǒng)極限真空度：優(yōu)于1Pa 工作壓力范圍：20～133Pa閉環(huán)控制 控制方式：工業(yè)微機 送料裝置：懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng) 淀積薄膜分類：Si 3N4、Si02、PSG、Pply-Si膜 真空泵：羅茨泵、機械泵 工藝氣路：5路氣／管。VCR接口 40KFIz脈寬調(diào)制AE高頻電源 裝片量：200片／舟 |
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