光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner) |
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價格: 元(人民幣) | 產地:本地 |
最少起訂量:1 | 發(fā)貨地:本地至全國 | |
上架時間:2022-07-31 01:01:06 | 瀏覽量:16 | |
上海騏銳信息科技有限公司
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經營模式:其他 | 公司類型:[db:公司類型] | |
所屬行業(yè): | 主要客戶:全國 | |
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聯(lián)系人:付志浩 () | 手機:18516146837 |
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郵箱:397467142@qq.com | 地址:上海市楊浦區(qū)政益路28號307 |
產品簡介
光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner) 詳細介紹光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),紫外曝光機等;ECOPIA為的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以的技術、*的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。 型號:M-150 技術規(guī)格: - 掩模尺寸:大7英寸; - 樣品尺寸:大6英寸; - 卡盤移動:X,Y,Z,Theta軸手動,楔形補償調平; - 紫外光源:6.25" X 6.25"; - 光源功率:350瓦紫外燈; - 光源均勻性:<+/-3%; - 光源365nm波長強度:大30毫瓦; - 顯微鏡:雙顯微鏡系統(tǒng); - 顯微鏡移動:X,Y,Z軸手動調節(jié); - 顯微鏡物鏡空間:50-150mm; - 標配放大倍率:80X-400X; - 顯示器:20" LCD; - 曝光時間:0.1-999秒; - 接觸模式:真空接觸,硬接觸,軟接觸,接近接觸(距離可調); - 對準精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode); - 電源:220V,單相,15安培; 主要特點: - 光源強度可控; - 紫外曝光,深紫外曝光(Option); - 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制; - 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式; - 真空吸盤范圍可調; -技術:可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式 - 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),大放大1000倍,顯示屏直接調節(jié),比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷,易于操作。 - 特殊的基底卡盤可定做; - 具有楔形補償功能; |
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