| 成都鑫南光生產(chǎn)供應(yīng)光刻機--光刻機廠家 |
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價格：325000 元(人民幣) | 產(chǎn)地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發(fā)貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2019-04-08 22:49:38 | 瀏覽量：439 | |
成都鑫南光機械設(shè)備有限公司
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| 經(jīng)營模式：其他 | 公司類型：生產(chǎn)型 | |
| 所屬行業(yè)：水利機械設(shè)備 | 主要客戶：全國 | |
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| 聯(lián)系人:康楠 () | 手機:17713626490 |
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| 郵箱:962914468@qq.com | 地址:中國四川省成都市雙流縣 成都市蛟龍工業(yè)港雙流園區(qū)渤海路3座 查看地圖 |
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型號 g系列 用途 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn) 別名 曝光機 產(chǎn)地 四川 尺寸 650*450*1500m 打印方向 雙向打印 規(guī)格 g—25x型 類型 雙面曝光機 售后服務(wù) 全國聯(lián)保 種類 smt貼片加工 自動化程度 全自動 經(jīng)營模式 生產(chǎn)加工 包裝類型 qfp 品牌 鑫南光 加工定制 是 詳細(xì)說明 g—25x型精密光刻機 一、主要用途 本設(shè)備是我公司針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性專門研發(fā)的一種精密光刻機，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。 二、主要構(gòu)成 主要由高精度對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場ccd顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。 三、主要功能特點: 1.適用范圍廣: 適用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。 2.結(jié)構(gòu)先進(jìn) 具有半球式找平機構(gòu)和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。 3.操作簡便 采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡便。 4.可靠性高 采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。 5.特設(shè)“碎片”處理功能 解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。 四、主要技術(shù)指標(biāo): 1、曝光頭:采用蠅眼曝光頭 2、曝光類型：單面 3、曝光面積：φ100mm 4、光束不平行度：≤6° 5、曝光不均勻性：≤±3% 6、掩模版尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、5″×5″ 7、基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″ 8、基片厚度：≤5 mm 9、曝光強度：≥5mw/cm2 10、曝光分辨率：≤1.0μm 11、曝光模式：套刻曝光 12、對準(zhǔn)精度：1μm 13、掃描范圍：x：±40mm y：±35mm 14、對準(zhǔn)范圍：承片臺相對于版運動為： ①x、y±5mm運動，放大比為400:1； ②q轉(zhuǎn)動為±5°；③z軸運動≤4mm； 15、密著曝光方式：密著曝光可實現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光； 16、顯微系統(tǒng)：雙視場ccd系統(tǒng)；連續(xù)可調(diào)（物鏡0.7～4.5倍連續(xù)可調(diào)）； 計算機圖像處理系統(tǒng)； 17、曝光燈功率：直流350w 18、曝光定時：0～999.9秒可調(diào) 19、電源：ac220v 50hz 1kw 20、空氣：p≥0.1mpa，耗氣量0.2m3/小時； 21、真空度：-0.07mpa～-0.09mpa 22、外形尺寸：918×680×1450(l×w×h)mm 23、重量：～160kg 機電之家網(wǎng)廠家成都鑫南光機械設(shè)備有限公司為您提供成都鑫南光生產(chǎn)供應(yīng)光刻機--光刻機廠家的詳細(xì)產(chǎn)品價格、產(chǎn)品圖片等產(chǎn)品介紹信息，您可以直接聯(lián)系廠家獲取成都鑫南光生產(chǎn)供應(yīng)光刻機--光刻機廠家的具體資料，聯(lián)系時請說明是在機電之家網(wǎng)看到的。 |
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