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國內(nèi)外商標(biāo)專利申請(qǐng)-計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記-版權(quán)登記-人才項(xiàng)目申報(bào)-高新企業(yè)認(rèn)定-研發(fā)費(fèi)用補(bǔ)貼-企業(yè)研發(fā)資助-科技創(chuàng)新小巨人-高新技術(shù)產(chǎn)品認(rèn)定

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具體扶持方式

(一)集成電路企業(yè)研發(fā)多項(xiàng)目晶圓(MPW)流片的，按直接費(fèi)用的80%給予補(bǔ)貼;

(二)集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)購買光罩、研發(fā)全掩膜(Full MASK)流片的，按直接費(fèi)用的40%給予補(bǔ)貼;

(三)集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)研發(fā)工程片、試流片的，按加工費(fèi)用的30%給予補(bǔ)貼。

設(shè)計(jì)企業(yè)購買光罩、研發(fā)全掩膜流片的直接費(fèi)用，與研發(fā)工程片、試流片的加工費(fèi)用難以(不能)進(jìn)行區(qū)分的，統(tǒng)一按照30%給予補(bǔ)貼;各種工藝制程下研發(fā)工程片、試流片時(shí)，所需的晶圓(wafer)數(shù)量應(yīng)該合理，最大不超過25片;晶圓廠收取的加工費(fèi)用包括數(shù)量合理的晶圓(wafer)費(fèi)用。

上述三項(xiàng)補(bǔ)貼，同一企業(yè)每年合計(jì)最高補(bǔ)貼600萬元。

申報(bào)條件

(一)申請(qǐng)企業(yè)的工商注冊(cè)地、稅務(wù)征管關(guān)系及統(tǒng)計(jì)關(guān)系在黃埔區(qū)、廣州開發(fā)區(qū)及其受托管理和下轄園區(qū)(以下簡(jiǎn)稱本區(qū))范圍內(nèi)，有健全財(cái)務(wù)制度、具有獨(dú)立法人資格(或視同法人單位)、獨(dú)立核算的新一代信息技術(shù)企業(yè)。申請(qǐng)企業(yè)屬于新一代信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的集成電路及關(guān)鍵元器件產(chǎn)業(yè);企業(yè)是否屬于政策扶持范圍，按照《集成電路企業(yè)認(rèn)定條件》(見附件)進(jìn)行認(rèn)定。(二)申請(qǐng)的項(xiàng)目研發(fā)補(bǔ)貼對(duì)應(yīng)的研發(fā)費(fèi)用應(yīng)在《實(shí)施意見》發(fā)布后且在政策有效期內(nèi)產(chǎn)生。

(三)申請(qǐng)本項(xiàng)補(bǔ)貼的企業(yè)，應(yīng)當(dāng)設(shè)立研發(fā)項(xiàng)目的財(cái)務(wù)輔助賬，申請(qǐng)上級(jí)和本級(jí)財(cái)政資助總額不能超過企業(yè)項(xiàng)目自籌資金總額，超過部分不予支持。項(xiàng)目已申請(qǐng)上級(jí)和本級(jí)財(cái)政資助的，必須在申請(qǐng)表中明確并對(duì)超過企業(yè)項(xiàng)目自籌資金總額部分予以核減。

(四)同一法人代表企業(yè)、隸屬于同一集團(tuán)企業(yè)、關(guān)聯(lián)企業(yè)、控股企業(yè)、母子公司等相關(guān)企業(yè)之間互相采購產(chǎn)品和服務(wù)不納入補(bǔ)貼范圍。

(五)近3年在申報(bào)和承擔(dān)國家、省、市和區(qū)等各級(jí)的科技計(jì)劃項(xiàng)目中無不良信用記錄

申報(bào)時(shí)間

(一)事項(xiàng)預(yù)審：申報(bào)單位登陸區(qū)政策兌現(xiàn)系統(tǒng)(http://zcdx.gdd.gov.cn)于10月14日-10月18日申請(qǐng)事項(xiàng)預(yù)審。

(二)提交紙質(zhì)審批材料：10月21日-10月25日。