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（銷售技術楊經理18103045976）

掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關鍵部件之一，是下游行業(yè)產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。掩模版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產，是下游行業(yè)生產流程銜接的關鍵部分，是下游產品精度和質量的決定因素之一。

掩模版（石英）的制造過程掩模版的工作原理

作為光刻復制圖形的基準和藍本，掩模版是連接工業(yè)設計和工藝制造的關鍵，掩模版的精度和質量水平會直接影響最終下游制品的優(yōu)品率。

掩模版的分類

按光掩模版基板材料可分為透明樹脂基板和透明玻璃基板。透明樹脂基板易于大型化，但是易變形，相較而言玻璃基板更為常用，按照玻璃材質又可細分為合成石英光掩模版、硼硅玻璃光掩模版和蘇打（鈉鈣玻璃）光掩模版三類。

按光掩模版遮光膜材料可分為乳膠遮光膜與硬質遮光膜兩大類。硬質遮光膜又可細分為鉻、硅、硅化鉬、氧化鐵四類，其中鉻質材料具有涂覆均一性好、刻蝕精度高、且無毒無污染的優(yōu)點，應用最為廣泛。

按光掩模版的用途可分為鉻版、凸版、干版和液體凸版四類。其中，鉻版主要由鉻質遮光膜與石英基板組成，由于其精度高、耐用性好，廣泛應用于微電子制造領域。

石英掩模版使用石英玻璃作為基板材料，透光率高，熱膨脹系數低，比蘇打玻璃更平整耐磨，使用壽命更長，主要用于高精度掩模版；蘇打掩模版用蘇打玻璃作為基板材料，由于材料的原因，各方面性能都劣于石英掩模版，主要用于中低精度掩模版；樹脂基板由于透光率一般，不耐用，精度低，主要用于PCB掩膜。

掩模版是集成電路制造過程中的圖形轉移工具或者母板，也就是半導體芯片的母板，承載著圖形信息和工藝技術信息。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉移到硅晶圓等基體材料上，從而實現集成電路的批量化生產。掩模版廣泛應用于半導體、平板顯示、電路板、觸控屏等領域。

石英材料和蘇打材料對比：

石英玻璃材料：以高純石英玻璃為基材，具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數等優(yōu)點，成本較高，通常應用于高精度掩模版產品。主要用于對精度要求較高的功率半導體、MEMS傳感器、先進IC封裝等領域。

蘇打玻璃材料：使用蘇打玻璃作為基板材料，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，成本相對較低，主要用于中低精度掩模版。主要用于對精度要求較低的中低端半導體制造、半導體封裝、光學器件、觸控屏和電路板制造等領域.

機器視覺標定

型號：HCM02-20*20

尺寸(mm)：20*20mm

厚度：1mm

精度：2μm

材料：陶瓷

標定板是一種帶有固定間距圖案陣列的幾何模型，通過標定算法計算，可以得到的測量和重建結果，有效校正了鏡頭畸變，大大提高了機器視覺應用中圖像測量、攝影測量的精度。主要功能為校正鏡頭畸變、確定物理尺寸和像素的換算關系、確定空間物體表面某點的三維幾何位置與圖像中對應點的關系，建立相機成像的幾何模型。

光學標定板

應用領域

宏誠光學玻璃系列標定板和陶瓷系列標定板是專為高校實驗、研究單位項目研發(fā)和機器視覺集成商產品標定等等客戶群體使用的常用標定工具，能夠方便獲得相機的標定數據。

標定板作用：

為校正鏡頭畸變、確定物理尺寸和像素間的換算關系，以及確定空間物體表面某點的三維幾何位置與其在圖像中對應點之間的相互關系，需要建立相機成像的幾何模型。是研究單位以及視覺領域標定工具，三維影像測量、三維逆向工程、立體匹配、三維重建等，主要通過標定軟件獲取相機標定結果的數據。

宏誠光學可定制各種標定板，校正片。

標定板材質：

材料一：蘇打玻璃：俄羅斯使用標定板顏色為銀色，德國，奧地利周邊國家標定板顏色為藍色；美國，日本標定板顏色均為黃色。這個顏色是鍍膜工藝決定，不能單憑顏色就判斷標定板的優(yōu)劣。國產標定板顏色為黃色， 其他顏色成本相對比較低。標準的制作工藝： 玻璃基底要經過拋光，清洗后，鍍膜等。膜層牢固，后期制作過程中瑕疵點效少。如果把其中某一道工藝減少或用的機器不是很好，做出來的產品，成本會便宜很多，同時質量一定不是很好。例子：如果按照正常工序制作，尺寸為63mm*63mm，大量制作的價格也至少在百元以上。

材料二： 陶瓷基底的標準板具有熱膨脹系數小、強度高、硬度高、耐磨性好、熱傳導率低、防酸堿性好等特點，且其良好的表面漫反射處理，解決了在應用過程中，前置光源情況下玻璃材質標定板反光的難題，可更好地識別標定板圖案細節(jié)信息從而達到更高的標定精度和測量精度。

材料三：石英材料，材料透光性好，大 優(yōu)勢：膨脹系數較小。在標定儀器過程中，受 環(huán)境溫度影響小。相應成本也很高。石英材料 分JGS1和JGS2。JGS1價格