俄亥俄州索倫市 – （2020 年 2 月 1 日） – 流體系統(tǒng)產(chǎn)品、組件和相關(guān)服務(wù)的領(lǐng)先解決方案提供商Swagelok宣布發(fā)布一款適用于高流量應(yīng)用的新型超高純 (UHP) 閥門(mén) ALD20。自將原子層沉積 (ALD) 閥門(mén)技術(shù)推向市場(chǎng)以來(lái)，Swagelok一直與半導(dǎo)體工具制造商和芯片制造商合作以提供所需的性能，從而與快速變化的工藝要求保持同步。新型 ALD20 閥門(mén)是這種合作的最新成果，因此，具有遠(yuǎn)見(jiàn)卓識(shí)的工藝設(shè)計(jì)者可以靈活地對(duì)低蒸氣壓化學(xué)材料進(jìn)行試驗(yàn)，而這些材料可能是保持明天競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)的關(guān)鍵。
ALD20 正在申請(qǐng)專利的設(shè)計(jì)所提供的流量系數(shù)是當(dāng)今標(biāo)準(zhǔn) ALD 閥門(mén)技術(shù)所能達(dá)到的兩到三倍，從而最大限度地提高了生產(chǎn)工藝效率和沉積一致性。它可以在與現(xiàn)有 ALD 閥相同的占用空間 (1.5 in.) 下提供高達(dá) 1.2 Cv 的流量，從而使某些用戶無(wú)需重裝現(xiàn)有設(shè)備或作出其他工藝變更即可提高產(chǎn)量。另一款具有稍大占用空間寬度 (1.75 in.) 的標(biāo)準(zhǔn)版 ALD20 閥門(mén)可提供高達(dá) 1.7 Cv 的更大流量。還提供定制設(shè)置的流量系數(shù)。
ALD20 專為實(shí)現(xiàn)峰值工藝一致性而設(shè)計(jì)，可完全浸入 50°F (10°C) 至 392oF (200oC)的氣箱中，從而增強(qiáng)了熱穩(wěn)定性和沉積均勻性。其閥體還由 316L VIM-VAR 不銹鋼或 哈式22 合金制成的閥體-具有更高的耐腐蝕能力，可以承受腐蝕性介質(zhì)-并采用高度拋光的 5 μin 波紋管。Ra 光潔度支持清潔作業(yè)，可實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期的工藝完整性。
“ALD20 是對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)迅猛發(fā)展的需求的直接響應(yīng)”，Swagelok半導(dǎo)體營(yíng)銷總監(jiān) Garrick Joseph 表示�！巴ㄟ^(guò)與行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者的合作以及流體系統(tǒng)工程專業(yè)知識(shí)的應(yīng)用，我們很榮幸推出了一款可使客戶有效使用前驅(qū)體氣體化學(xué)物質(zhì)的產(chǎn)品，以前，人們認(rèn)為這些物質(zhì)的應(yīng)用難度太大或成本過(guò)高，但其對(duì)于下一代芯片技術(shù)的開(kāi)發(fā)可能極為關(guān)鍵�！�
ALD20 現(xiàn)已提供帶有兩個(gè)或三個(gè)端口的模塊化表面安裝配置、帶卡套管對(duì)焊和外螺紋或內(nèi)螺紋 VCR® 面密封端接的直通配置以及多孔口閥配置，以優(yōu)化現(xiàn)有或新系統(tǒng)中的流路。高溫光學(xué)位置傳感器同樣可作為附加組件提供。