水鉆行業(yè)用去離子水的場(chǎng)合主要有：
真空鍍膜或電鍍液配置，水鉆的清洗，主要用超聲波配合高純度去離子水清洗，以達(dá)到優(yōu)異的效果；
水鉆行業(yè)水質(zhì)要求：
1、水質(zhì)電阻率15M以上；
2、基本不含其它雜質(zhì)離子；
水鉆行業(yè)去離子水設(shè)備的工藝：
主要有三種工藝：
1、傳統(tǒng)工藝：
自來(lái)水——過(guò)濾器——陽(yáng)離子交換器——陰離子交換器——混床——水箱——用水點(diǎn)
此方法為最傳統(tǒng)的方法，一般以倍爾凈的LZA系列去離子水設(shè)備為代表。
此方法的優(yōu)點(diǎn)是：投資少，出水水質(zhì)穩(wěn)定。
缺點(diǎn)是：操作復(fù)雜，需要再生，耗酸堿比較多；處理后的水質(zhì)中有機(jī)物部分及部分顆粒雜質(zhì)不能去除。
使用現(xiàn)狀：目前正處理于逐步淘汰的階段；
2、反滲透+混床工藝
流程：自來(lái)水+沙過(guò)濾器+碳過(guò)濾+軟化器（或阻垢劑）+精濾+RO反滲透+混床+水箱+用水點(diǎn)
此工藝為目前最主流的工藝，以倍爾凈的RD系列去離子水設(shè)備為代表，廣泛應(yīng)用于水鉆行業(yè)。
優(yōu)點(diǎn)：RO反滲透的應(yīng)用，去除99%以上的離子，剩余部分用混床處理，相對(duì)再生較少。操作相對(duì)簡(jiǎn)單，且出水水質(zhì)好。一般15-18M電阻。
缺點(diǎn)：沒(méi)完全擺脫再生處理。
投資：投資相對(duì)中等。
3、先進(jìn)工藝
流程：預(yù)處理+RO反滲透+EDI電去離子系統(tǒng)，以倍爾凈EDI系列去離子水設(shè)備為代表，選型表可參照：http://qjhb.net/category-3.html
優(yōu)點(diǎn)：
出水水質(zhì)好；
無(wú)需再生，操作簡(jiǎn)單，完全環(huán)保無(wú)污染；
容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制；
缺點(diǎn)：投資成本較高。
是未來(lái)水處理發(fā)展的方向。
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